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【10.20寰宇】遂岩科技突破EUV光源! LPP技术+343台DUV+纳米压印 中国如何三路突围ASML垄断?

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2026-10-20 12:19:06
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中国光刻机突围再现新进展!上海遂岩科技传出首度亮相EUV光源样机,采用与ASML相同的LPP雷射打锡滴技术,国产化率备受关注。中国同步布局343台DUV设备搭配多重曝光,以及奈米压印技术,试图从EUV、DUV到替代方案三路突破先进制程封锁,挑战ASML长年主导的光刻机市场。不过,从光源研发到晶片量产仍有技术门槛,中国半导体自主化之路仍充满挑战。
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简介
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